“伯恩，太好了。

这样，我们的麒麟研究院就拥有了全世界光刻机领域中最顶尖的技术了。

以后，我们的这项技术，就可以命名为浸没式光刻技术。”

随即，季宇宁赶到了沙田麒麟研究院那巨大的光刻机研发基地。

他又再一次亲眼目睹了这个划时代的芯片工业中的光刻技术。

这是他的麒麟研究院拥有的芯片产业中最顶尖的一项技术。

也是他几乎同步复制的上一世的一项关键技术。

90年代末的时候，光刻技术的极限波长为157nm，成为全球光学专家难以逾越的鸿沟。

当时，刚刚在2000年下半年加入海峡对岸的那个全世界最大的芯片代工厂的林本坚，没有气馁，他开始尝试逆向思维，探索能否在193nm波长的基础上，通过加入介质的方式实现更短的波长。

经过无数次的实验和计算，林本坚终于发现，在透镜和晶圆之间加入水，可以将193nm的波长经水折射后缩短至134nm。

这项突破性的技术，被命名为浸没式光刻技术，正是后来EUV光刻机所采用的技术。